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温度和物体表面处理对微弧氧化的影响
2022.07.16

微弧氧化对铝材要求不高。无论含铜或含硅的铝合金氧化有多难,只要阀金属的比例大于40%,就可以用在微弧氧化中,获得理想的膜层。一般表面状况不需要抛光处理。对于粗糙的表面,经过微弧氧化,可以修复平整光滑;对于低粗糙度(即光滑)的表面,粗糙度会增加。

微弧氧化与常规的氧化不同,微弧氧化电解液的允许温度范围很宽,可以在10 ~ 90℃进行。温度越高,在工件和溶液界面蒸发的水越多,成膜越快,但其粗糙度也增加。同时,温度越高,电解液蒸发越快,所以微弧氧化电解液的温度一般控制在20 ~ 60℃范围内。由于微弧氧化的大部分能量以热能的形式释放工业铝型材,其氧化溶液的升温速度比常规氧化快,因此微弧氧化工艺需要配备大容量的换热制冷系统来控制槽温。虽然微弧氧化过程在工件表面有大量气体,对电解液有一定的搅拌作用,但为了保证氧化温度和系统成分的均匀性,一般会配备机械装置或压缩空气来搅拌电解液。

微弧氧化电压和电流密度的控制对获得合格的薄膜也很重要。不同的铝基材料,不同的氧化电解液,微弧放电的击穿电压不同(击穿电压是工件表面刚刚产生的微弧放电的电解电压),微弧氧化电压一般控制在比击穿电压高几十到几百伏。不同氧化电压形成的陶瓷膜性能、表面状态和膜厚不同。

工业铝型材微弧氧化电压可根据薄膜性能的要求和不同的工艺条件在200 ~ 600v范围内变化,选择工作电压的原则是保证在氧化过程中能尽可能长时间地维持发育良好的火花或电弧现象,防止电压过大而产生破坏性电弧。

微弧氧化

数据提供:天助网    
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